ข่าว บริษัท เกี่ยวกับ ห้องคลีนรูมแบบโมดูลาร์ทั่วไปในโรงงานเซมิคอนดักเตอร์จัดอยู่ในประเภทใด

ห้องคลีนรูมแบบโมดูลาร์ในโรงงานเซมิคอนดักเตอร์จัดอยู่ในประเภทใดโดยทั่วไป?

ห้องคลีนรูมแบบโมดูลาร์ในโรงงานเซมิคอนดักเตอร์ได้รับการออกแบบมาเพื่อตอบสนองมาตรฐานความสะอาดของอากาศที่เข้มงวดซึ่งกำหนดโดยกระบวนการผลิตเฉพาะ โดยส่วนใหญ่เป็นไปตามระบบการจำแนกประเภท ISO 14644-1 ระดับที่พบบ่อยที่สุดมีดังนี้:

1. ISO Class 4 (เทียบเท่า Fed-Std-209E Class 10) นี่คือระดับสูงสุดที่มักนำมาใช้ในรูปแบบโมดูลาร์ สงวนไว้สำหรับพื้นที่กระบวนการที่สำคัญที่สุด เช่น ห้องโฟโตลิโทกราฟีสำหรับโหนดขั้นสูง โซนการเคลือบฟิล์มบางที่สำคัญ และสภาพแวดล้อมการลิโทกราฟี EUV (Extreme Ultraviolet) พื้นที่เหล่านี้ต้องการจำนวนอนุภาคที่เกือบเป็นศูนย์สำหรับอนุภาคขนาดเล็กถึง 0.1 μm ห้องคลีนรูมแบบโมดูลาร์บรรลุเป้าหมายนี้ผ่านการจัดเรียงชุดพัดลมกรอง HEPA หรือ ULPA (FFUs) อย่างหนาแน่นบนเพดาน สร้างการไหลเวียนของอากาศแบบทิศทางเดียวในแนวตั้งจากเพดานลงสู่พื้นยก มีการบูรณาการกับการควบคุมอุณหภูมิ ความชื้น และการสั่นสะเทือนอย่างเข้มงวด

2. ISO Class 5 (Class 100): นี่คือมาตรฐานหลักสำหรับพื้นที่การผลิตหลัก ห้องคลีนรูมแบบโมดูลาร์ส่วนใหญ่สำหรับกระบวนการต่างๆ เช่น การแพร่ การกัด การปลูกถ่ายไอออน และการปรับผิวหน้าด้วยสารเคมี (CMP) ในโรงงานผลิตลอจิกและหน่วยความจำหลักถูกสร้างขึ้นตามมาตรฐาน ISO 5 ให้สภาพแวดล้อมที่ควบคุมได้ โดยจำนวนอนุภาคสำหรับอนุภาค ≥0.5 μm ถูกจำกัดไว้ที่ 3,520 อนุภาคต่อลูกบาศก์เมตร การก่อสร้างแบบโมดูลาร์ช่วยให้สามารถจัดวางเครื่องมือประมวลผล ช่องสาธารณูปโภค และช่องอากาศกลับได้อย่างมีประสิทธิภาพ

3. ISO Class 6 (Class 1,000): เหล่านี้มักใช้สำหรับโซนที่มีความสำคัญน้อยกว่าเล็กน้อย เช่น พื้นที่การวัดบางส่วน สายการประกอบและบรรจุภัณฑ์บางส่วน สถานีตรวจสอบเวเฟอร์ และทางเดินขนส่งวัสดุที่สะอาด (AMHS) นอกจากนี้ยังเหมาะสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์กำลังหรืออุปกรณ์บนโหนดกระบวนการที่สมบูรณ์แล้ว

4. ISO Class 7 (Class 10,000) และ ISO Class 8 (Class 100,000): ห้องคลีนรูมแบบโมดูลาร์ในระดับเหล่านี้ทำหน้าที่สนับสนุนและฟังก์ชันเสริม โดยทั่วไปจะใช้สำหรับช่องบริการอุปกรณ์ พื้นที่จัดเก็บสารเคมีและก๊าซ (โซนส่งมอบจำนวนมาก) ห้องแต่งกาย และพื้นที่เตรียมการโหลด/ยกเลิกการโหลดเวเฟอร์ ทำหน้าที่เป็นโซนบัฟเฟอร์เพื่อป้องกันการปนเปื้อนเข้าสู่แกนหลักของโรงงานที่มีคลาสสูงกว่า